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    霍爾離子源 eH 3000
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    霍爾離子源 eH 3000

    KRI 霍爾離子源 eH 3000
    上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
    尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
    放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
    操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

    KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
    水冷 - 加速冷卻
    可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
    寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
    多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
    高效的等離子轉換和穩定的功率控制

    KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

    型號

    eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

    供電

    DC magnetic confinement

      - 電壓

    50-250V VDC

      - 離子源直徑

    ~ 7 cm

      - 陽極結構

    模塊化

    電源控制

    eHx-25020A

    配置

    -

     - 陰極中和器

    Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

     - 離子束發散角度

    > 45° (hwhm)

      - 陽極

    標準或 Grooved

     - 水冷

    前板水冷

     - 底座

    移動或快接法蘭

     - 高度

    4.0'

     - 直徑

    5.7'

     - 加工材料

    金屬
    電介質
    半導體

     - 工藝氣體

    Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

     - 安裝距離

    16-45”

     - 自動控制

    控制4種氣體

    * 可選: 可調角度的支架;

    KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
    濺鍍和蒸發鍍膜 PC
    輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
    表面改性, 激活 SM
    直接沉積 DD

    其他產品
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