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    射頻離子源 RFICP 380
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    射頻離子源 RFICP 380

    大口徑射頻離子源 RFICP 380
    上海伯東美國 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層柵極設計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, 套裝包含離子源本體和電源控制器.
    大口徑射頻離子源 RFICP 380-------------- 離子源自動控制器 --------------   -------- 射頻離子源 RFICP 380 本體 ----

    射頻離子源 RFICP 380 特性
    1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
    2. 離子源結構模塊化設計
    3. 離子光學, 自對準技術, 準直光束設計, 自動調節技術保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
    4. 全自動控制器
    5. 離子束動能 100-1200eV

    射頻離子源 RFICP 380 技術規格:

    陽極

    電感耦合等離子體
    2kW & 1.8 MHz
    射頻自動匹配

    最大陽極功率

    >1kW

    最大離子束流

    > 1000mA

    電壓范圍

    100-1500V

    離子束動能

    100-1200eV

    氣體

    Ar, O2, N2,其他

    流量

    5-50sccm

    壓力

    < 0.5mTorr

    離子光學, 自對準

    OptiBeamTM

    離子束柵極

    38cm Φ

    柵極材質

    鉬或石墨

    離子束流形狀

    平行,聚焦,散射

    中和器

    LFN 2000

    高度

    38.1 cm

    直徑

    58.2 cm

    鎖緊安裝法蘭

    12”CF


    射頻離子源 RFICP 380 尺寸:
    射頻離子源尺寸

    大口徑射頻離子源典型應用:
    射頻離子源安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產
    射頻離子源
    在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
    上海伯東RFICP325脫模測試

    --------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國 KRI 射頻離子源 ----------------------

    從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國 KRI 射頻離子源, 樣品無崩邊


    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

    若您需要進一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式
    上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
    T: +86-21-5046-3511 ext 109             T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
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