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    霍爾離子源 eH 200
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    霍爾離子源 eH 200

    KRI 霍爾離子源 eH 200
    上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內, 例如研發分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產工具.

    KRI 霍爾離子源 eH 200 技術參數:

    型號

    eH 200

    供電

    DC magnetic confinement

      - 電壓

    40-300V VDC

      - 離子源直徑

    ~ 2 cm

      - 陽極結構

    模塊化

    電源控制

    eHx-3005A

    配置

    -

      - 陰極中和器

    Filament or Hollow Cathode

      - 離子束發散角度

    > 45° (hwhm)

      - 陽極

    標準或 Grooved

      - 水冷

      - 底座

    移動或快接法蘭

      - 高度

    2.0'

      - 直徑

    2.5'

      -加工材料

    金屬
    電介質
    半導體

      -工藝氣體

    Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

      - 安裝距離

    6-24”

      - 自動控制

    控制4種氣體

    * 可選: 可調角度的支架; Filamentless; Sidewinder

    KRI 霍爾離子源 eH 200 應用領域:
    濺鍍和蒸發鍍膜 PC
    輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
    表面改性, 激活 SM
    直接沉積 DD

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